タカギ　シゲユキ   高木　茂行    所属   工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2023/12
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Comparison of distributions of etching rate and calculated plasma parameters in dual-frequency capacitively coupled plasma
執筆形態	共著
掲載誌名	Japanese Journal of Applied Physics
掲載区分	国内
出版社・発行元	日本応用物理学会
巻・号・頁	62(SN),pp.SN1011-1-SN1011-7
担当区分	筆頭著者
著者・共著者	Shigeyuki Takagi, Kazumichi Ishii, Shih-Nan Hsiao, and Makoto Sekine
外部リンクURL	https://doi.org/10.35848/1347-4065/acec56