タカギ　シゲユキ   高木　茂行    所属   工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	日本語
発行・発表の年月	2003/09
形態種別	学術論文
招待論文	招待あり
標題	Predictable topography simulation of SiO2 etching by C5F8 gas combined with a plasma simulation, sheath model and chemical reaction model
執筆形態	共著
掲載誌名	Plasma Source and Technology
出版社・発行元	Institute of　Physics
巻・号・頁	12(3),S64-S71頁
著者・共著者	S Onoue, K Iyanagi, K Nishitani, T Shinmura, M Kanoh, H Itoh, Y Shioyama, T Akiyama, D Kishigami