タカギ シゲユキ
  高木 茂行
   所属   工学部 電気電子工学科
   職種   教授
言語種別 日本語
発行・発表の年月 2003/09
形態種別 学術論文
査読 査読あり
標題 Ab Initio Calculation of F Atom Desorption in Tungsten Chemical Vapor Deposition Process Using WF6 and H2.
執筆形態 共著
掲載誌名 Japanese Journal of Applied Physics
出版社・発行元 The Japan Society of Applied Physics
巻・号・頁 42(9),5751-5752頁
著者・共著者 Kazuhito Nishitani, Masaaki Kano, Toshiyuki Yokosuka