|
エガシラ ヤスユキ
江頭 靖幸 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
|
| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 1995 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 標題 | Control of SiH4/O2 Chemical Vapor Deposition Using the Gas-phase Additive C2H4 |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Appl. Phys. Lett. |
| 巻・号・頁 | 66,pp.2858-2860 |
| 著者・共著者 | T.Takahashi, Y.Egashira and H.Komiyama |