ヤマシタ タカシ
  山下 俊
   所属   工学部 応用化学科
   職種   教授
言語種別 日本語
発行・発表の年月 2009/06
形態種別 学術論文
標題 Refractive index lithography materials based on chemically amplified reaction
執筆形態 共著
掲載誌名 J. Photopolym., Sci. Tech., (2009)
巻・号・頁 22(6),783-787頁
概要 主筆
2009年6月24日
化学増幅反応を利用して高分子のフォトオプティカル効果による屈折率制御を高感度化した。