ヤマシタ タカシ
  山下 俊
   所属   工学部 応用化学科
   職種   教授
言語種別 日本語
発行・発表の年月 1993/05
形態種別 学術論文
標題 A Mechanism for the Electron Beam Lithography of Solvent Soluble Photo Sensitive Polyimides
執筆形態 共著
掲載誌名 Polym. Adv. Tech. (1993)
巻・号・頁 4,244-250頁
概要 主筆
1993年5月4日
可溶性ポリイミドを用いた電子線レジストの開発とその反応機構の解明