ニシオ　カズユキ   西尾　和之    所属   工学部 応用化学科    職種   教授
言語種別	日本語
発行・発表の年月	2007/10
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Fabrication of site-controlled tunnel pits with high aspect ratios by electrochemical etching of al using masking film.
執筆形態	共著
掲載誌名	Electrochem. Solid-State Lett.
概要	主筆 前報にて，Al箔の表面にマスキングフィルムを形成して電解エッチングすることで，ピットの形成位置を制御できる事を報告した．しかし，ピットを深く成長させる事は不可能であった．電解エッチングの前に微量のCuを試料の表面に析出する事によりピットが深く成長し，トンネルピットの理想配列を得ることが可能となった．