ナカハライ　シュウ   中払　周    所属   工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2006
形態種別	国際会議論文
査読	査読あり
標題	“Strained-SOI/SGOI dual channel CMOS technology based on Ge condensation technique”
執筆形態	共著
掲載誌名	Third International SiGe Technology and Device Meeting
掲載区分	国外
巻・号・頁	pp.160
著者・共著者	T. Tezuka, S. Nakaharai, Y. Moriyama, N. Hirashita, E. Toyoda, T. Numata, T. Irisawa, K. Usuda, N. Sugiyama, T. Mizuno and S. Takagi,