ハラ　ケンジ   原　賢二    所属   工学部 応用化学科    職種   教授
言語種別	日本語
発行・発表の年月	2012/03
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Selective and Efficient Silylation of Mesoporous Silica: A Quantitative Assessment of Synthetic Strategies by Solid-State NMR
執筆形態	共著
掲載誌名	J. Phys. Chem. C
出版社・発行元	ACS
巻・号・頁	116(12),7083-7090頁
著者・共著者	K. Hara, S. Akahane, J.W. Wiench, B.R. Burgin, N. Ishito, V.S.-Y. Lin, A. Fukuoka and M. Pruski
概要	メソポーラスシリカを特異な触媒反応場として利用するためには、細孔内表面とシリカ外表面の選択的修飾が必要である。本研究では、シリカ外表面を選択的に修飾するための手法を詳細に最適化するべく、最新の固体ＮＭＲ手法により定量的な検討を行った。その結果、修飾に用いる試薬、等量、洗浄方法などが重要であることが判明した。これらは、細孔内に選択的に触媒活性点を導入した高度な触媒設計のために重要な知見である。
DOI	10.1021/jp300580f
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