ナカハライ　シュウ   中払　周    所属   工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2006
形態種別	国際会議論文
査読	査読あり
標題	”Reduction of dislocation density in SGOI structures by two step oxidation and condensation method”
執筆形態	共著
掲載誌名	2nd Int. Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
掲載区分	国外
巻・号・頁	pp.29
著者・共著者	N. Sugiyama, S. Nakaharai, N. Hirashita, T. Tezuka, Y. Moriyama, K. Usuda and S. Takagi,