ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2006 |
形態種別 | 国際会議論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | “Hole mobility enhanement using SiGe/Ge channels” |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | European Material Research Society Meeting, Symposium B: From Strained Si to Nanotubes: Novel Channels for Field Effect Devices |
掲載区分 | 国外 |
巻・号・頁 | B4-1. |
著者・共著者 | S. Takagi, T. Tezuka, T. Irisawa, S. Nakaharai, T. Numata, K. Usuda, T. Maeda and N. Sugiyama, |