キムラ ヤスオ
木村 康男 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2012 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | IR study of fundamental chemical reactions in atomic layer deposition of HfO2 with tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAH), ozone, and water vapor |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Applied Surface Science |
出版社・発行元 | 0 |
巻・号・頁 | 258(0),pp.7726-7731 |
著者・共著者 | F. Hirose, Y. Kinoshita, K. Kanomata, K. Momiyama, S. Kubota, K. Hirahara, Y. Kimura, M. Niwano |