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ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2008 |
| 形態種別 | 国際会議論文 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | “Gate all around (GAA) strained-silicon-on-nothing (SSON) MOSFETs and evaluation of their strain by nano-beam diffraction (NBD)” |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | 2008 IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | pp.77 |
| 著者・共著者 | K. Usuda, S. Nakaharai, T. Irisawa, Y. Moriyama, N. Hirashita, T. Tezuka, Y. Yamashita, N. Taoka, O. Kiso, Y. Yamamoto, N. Sugiyama, S. Takagi, |