ナカハライ　シュウ   中払　周    所属   工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2008
形態種別	国際会議論文
査読	査読あり
標題	“High mobility sub-60 nm gate length germanium-on-insulator channel pMOSFETs with metal source/drain and TaN MIPS gate”
執筆形態	共著
掲載誌名	Extended Abstract of 2008 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
掲載区分	国外
巻・号・頁	pp.32
著者・共著者	K. Ikeda, Y. Yamashita, M. Harada, T. Yamamoto, S. Nakaharai, N. Hirashita, Y. Moriyama, T. Tezuka, N. Taoka, I. Watanabe, N. Hirose, N. Sugiyama, S. Takagi,