タカギ シゲユキ
高木 茂行 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2007/08 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | Modeling and Simulation of Arsenic- Doped-Silicon Low-Pressure Chemical Vapor Deposition |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Japanese Journal of Applied Physics |
出版社・発行元 | The Japan Society of Applied Physics |
巻・号・頁 | 46(12),pp.5095-5100 |
著者・共著者 | Shigeru Kinoshita, Takuya Konno, Takashi Suzuki, Kunisuke Kaki |