セキガワ タカヒロ
SEKIGAWA,Takahiro
関川 貴洋 所属 片柳研究所 研究者 職種 助教 |
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言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2001/01 |
形態種別 | 学術論文 |
標題 | Y2SiO5/SiC被覆の希薄酸素中での酸化挙動 |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | 日本金属学会誌 |
掲載区分 | 国内 |
巻・号・頁 | 65(1) |
概要 | Y2SiO5/SiC被覆を宇宙往還機の飛行経路から予測される温度パターンで繰り返し加熱し,酸化による質量変化を測定するとともに,走査型レーザー顕微鏡による高温での被覆表面のその場観察,酸化により生成したガスの高温質量分析を行い,Y2SiO5/SiC被覆の耐酸化性および劣化機構を評価した。 |