タカギ　シゲユキ   高木　茂行    所属   工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2023/03
形態種別	学術講演予稿集（学会、研究会を含む）
査読	査読あり
標題	Comparison of Uniformity between Etching Rate and Calculated Plasma Parameter in Dual-Frequency Capacitively Coupled Plasma
執筆形態	共著
掲載誌名	15th International Symposium on Advanced Plasma Science
掲載区分	国内
出版社・発行元	The Japan Society of Applied Physics
巻・号・頁	15,pp.06P-P1-21-06P-P1-21
総ページ数	1
担当区分	筆頭著者
著者・共著者	Shigeyuki Takagi, Dong Hao, Shih-Nan Hsiao and Makoto Sekine