ホソダ　ナオエ   細田　奈麻絵    所属   片柳研究所 研究者    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1997
形態種別	国際会議論文
標題	Wafer Direct Bonding of Compound Semiconductor Silicon at Room Temperature by the Surface Activated Bonding Method
執筆形態	その他
掲載誌名	Int.Symp.Control of Semoconduction Interfaces
巻・号・頁	117-118,pp.808-812
著者・共著者	T. R. Chung, Liu Yang, N.Hosoda, T. Suga