セキガワ　タカヒロ   SEKIGAWA,Takahiro   関川　貴洋    所属   片柳研究所 研究者    職種   助教
言語種別	日本語
発行・発表の年月	2001/01
形態種別	学術論文
標題	C/C複合材用耐酸化被覆材料の蒸発特性
執筆形態	共著
掲載誌名	日本金属学会誌
掲載区分	国内
巻・号・頁	65(1)
概要	プラズマ溶射されたY2SiO5膜の蒸発速度は，低圧空気中で測定されました。 圧力制御チャンバー内に設置した試料をキセノンイメージ炉で加熱し，Y2SiO5 膜の減耗速度を蒸発速度に換算すると10^-4μm/sとなった。