ナカハライ　シュウ   中払　周    所属   工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2004
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	“Kinetics of epitaxial growth of Si and SiGe films on (110) Si substrates”
執筆形態	共著
掲載誌名	Applied Surface Science
掲載区分	国外
巻・号・頁	224,pp.188
著者・共著者	N. Sugiyama, Y. Moriyama, S. Nakaharai, T. Tezuka, T. Mizuno, S. Takagi,
概要	インパクトファクタ：6.707, 被引用回数：12回