ホソダ　ナオエ   細田　奈麻絵    所属   片柳研究所 研究者    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1998
形態種別	国際会議論文
標題	Si/Si Interface Bonded at Room Temperature by Ar Beam Surface Activation
執筆形態	その他
掲載誌名	Intergranular and Interphase Boundariesin Materials (iib'98)
巻・号・頁	pp.341-344
著者・共著者	H.Takagi, R.Maeda, N.Hosoda, T.Suda