ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
|
言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2006 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | “Hole mobility enhancement of p-MOSFETs using global and local Ge-channel technologies” |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Materials Science and Engineering B |
掲載区分 | 国外 |
巻・号・頁 | 135,pp.250 |
著者・共著者 | S. Takagi, T. Tezuka, T. Irisawa, S. Nakaharai, T. Maeda, T. Numata, K. Ikeda, N. Sugiyama, |
概要 | インパクトファクタ:4.051, 被引用回数:23回 |