エガシラ　ヤスユキ   江頭　靖幸    所属   工学部 応用化学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2007
形態種別	学術論文
標題	Kinetic modeling of tungsten silicide chemical vapor deposition from WF6 and Si2H6: Determination of the reaction scheme and the gas-phase reaction rates
執筆形態	共著
掲載誌名	Chem. Eng. Sci.
巻・号・頁	62,pp.6403-6411
著者・共著者	T. Saito, K. Oshima, Y. Shimogaki, Y. Egashira, K. Sugawara, K. Takahiro, S. Nagata, S. Yamaguchi, H. Komiyama