ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2007 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | “The formation of SGOI structures with low dislocation density by a two-step oxidation and condensation method” |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Semiconductor Science and Technology |
掲載区分 | 国外 |
巻・号・頁 | 22,pp.S59 |
著者・共著者 | N. Sugiyama, S. Nakaharai, N. Hirashita, T. Tezuka, Y. Moriyama, K. Usuda, S. Takagi, |