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ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2009 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | “Formation process of high-purity Ge-on-insulator layers by Ge-condensation technique” |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Journal of Applied Physics |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 105, 024515 |
| 担当区分 | 筆頭著者,責任著者 |
| 著者・共著者 | S. Nakaharai, T. Tezuka, N. Hirashita, E. Toyoda, Y. Moriyama, N. Sugiyama, S. Takagi, |