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ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2009 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | “Study of the surface cleaning of GOI and SGOI substrates for Ge epitaxial growth” |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Applied Surface Science |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 256,pp.823 |
| 著者・共著者 | Y. Moriyama, N. Hirashita, K. Usuda, S. Nakaharai, N. Sugiyama, E. Toyoda, S. Takagi, |
| 概要 | インパクトファクタ:6.707, 被引用回数:8回 |