ホソダ　ナオエ   細田　奈麻絵    所属   片柳研究所 研究者    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1991/08
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Effect of O2 , N2 and CO impurities on the H2 absorption rate of Ti films at 300K
執筆形態	その他
掲載誌名	J.Less-Common Met.
出版社・発行元	Elsevier
巻・号・頁	172-174,pp.824-831
著者・共著者	N.Hosoda, H.H.Uchida, E.From
概要	被引用数 6回