ホソダ　ナオエ   細田　奈麻絵    所属   片柳研究所 研究者    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1997/06
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Wafer Direct Bonding of Compound Semiconductor Silicon at Room Temperature by the Surface Activated Bonding Method
執筆形態	その他
掲載誌名	Applied Surface Science
巻・号・頁	117-118,pp.808-812
著者・共著者	T. R. Chung, Liu Yang, N.Hosoda, H.Takagi, T. Suga
概要	被引用数 103回