ホソダ ナオエ
細田 奈麻絵 所属 片柳研究所 研究者 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 1998/07 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | Effect of the surface treatment on the room-temperature bonding of Al to Si and SiO2 |
執筆形態 | その他 |
掲載誌名 | Japanese Journal of Applied Physics |
出版社・発行元 | Japan Society of Applied Physics |
巻・号・頁 | 37,pp.4197-4203 |
著者・共著者 | N.Hosoda, Y. Kyogoku, T.Suga |