ホソダ　ナオエ   細田　奈麻絵    所属   片柳研究所 研究者    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1999/12
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Room-temperature bonding of Si wafers to Pt films on SiO2 or LiNbO3 substrates using Ar-beam surface activation
執筆形態	その他
掲載誌名	Japanese Journal of Applied Physics
出版社・発行元	Japan Society of Applied Physics
巻・号・頁	38,pp.L1559-L1561
著者・共著者	H. Takagi, R. Maeda, N. Hosoda, T. Suga
概要	被引用数 23回