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ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2014 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | “Thickness Scaling Effect on Interfacial Barrier and Electrical Contact to Two-Dimensional MoS2 Layers” |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | ACS Nano |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 8,pp.12836-12842 |
| 著者・共著者 | S.-L. Li, K. Komatsu, S. Nakaharai, Y.-F. Lin, M. Yamamoto, X. Duan, K. Tsukagoshi, |