ホソダ　ナオエ   細田　奈麻絵    所属   片柳研究所 研究者    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1999/04
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Room-temperature bonding of lithium niobate and silicon wafers by argon-beam surface activation
執筆形態	その他
掲載誌名	Appl. Phys. Lett.
巻・号・頁	74(16),pp.2387-2389
著者・共著者	H. Takagi, R. Maeda, N. Hosoda, T. Suga
概要	被引用数 144回