| マエダ ナリヒコ 前田 就彦 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 | |
| 言語種別 | 日本語 | 
| 発行・発表の年月 | 2004 | 
| 形態種別 | 学術論文 | 
| 査読 | 査読あり | 
| 標題 | (ジャーナル論文)Device Performance at Elevated Temperatures up to 200 oC in AlGaN/GaN Insulated Gate Heterostructure Field Effect Transistors with Ultra-Thin Al2O3/Si3N4 Bilayer | 
| 執筆形態 | 共著 | 
| 掲載誌名 | Proceedings of International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai | 
| 巻・号・頁 | 45-46頁 | 
| 著者・共著者 | C. X. Wang, N. Maeda, M. Hiroki, N. Kobayashi, and T. Enoki, | 
| 概要 | 副筆 IEEE Cat. No. 04EX829 |