ホソダ　ナオエ   細田　奈麻絵    所属   片柳研究所 研究者    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1999
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Si/Si interface bonded at room temperature by Ar beam surface activation
執筆形態	その他
掲載誌名	Materials Science Forum
巻・号・頁	294-296,pp.341-344
著者・共著者	H. Takagi, R. Maeda, N. Hosoda, T. Suga
概要	被引用数 5回