ホソダ　ナオエ   細田　奈麻絵    所属   片柳研究所 研究者    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1999/03
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Atomic structure of Al/Al interface formed by surface activated bonding
執筆形態	その他
掲載誌名	Journal of Materials Science
出版社・発行元	Springer
巻・号・頁	34,pp.4133-4139
著者・共著者	T.Akatsu, N.Hosoda, T.Suga, M.Roehle
概要	被引用数 64回