ヤマシタ タカシ
Yamashita Takashi
山下 俊 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2009/06 |
形態種別 | 学術論文 |
標題 | Refractive index lithography materials based on chemically amplified reaction |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | J. Photopolym., Sci. Tech., (2009) |
巻・号・頁 | 22(6),783-787頁 |
概要 | 主筆 2009年6月24日 化学増幅反応を利用して高分子のフォトオプティカル効果による屈折率制御を高感度化した。 |