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マエダ ナリヒコ
前田 就彦 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 日本語 |
| 発行・発表の年月 | 2005 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | (ジャーナル論文)High Drain Current Density and Reduced Gate Leakage Current in Channel-Doped AlGaN/GaN Heterostructure Field-Effect Transistors with Al2O3/Si3N4 Gate Insulator |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Applied Physics Letters |
| 巻・号・頁 | Vol. 87(No.7),73504-73506頁 |
| 著者・共著者 | N. Maeda, C. Wang, T. Enoki, T. Makimoto, and T. Tawara, |
| 概要 | 主筆 |