ニシオ カズユキ
西尾 和之 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2005/05 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | Direct Nanoimprinting of Si Single Crystals Using SiC Molds for Ordered Anodic Tunnel Etching. |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Adv. Mater. |
概要 | 主筆 ナノスケールの規則突起配列を有するモールドをSiにプレスし,Siの表面にナノスケールの窪みの配列を形成した.このSiを適切な条件でアノードエッチングする事により,ナノスケールで細孔が規則配列したポーラスSiを形成することができた. |