キムラ ヤスオ
木村 康男 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
|
言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 1996 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | Real-Time, In-Situ Infrared Study of Etching of Si(100) and (111) Surface in Dilute Hydrofluoric Acid Solution |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Journal of Applied Physics |
出版社・発行元 | 0 |
巻・号・頁 | 79(7),pp.3708-3713 |
担当範囲 | 0 |
著者・共著者 | M. Niwano, T. Miura, Y. Kimura, R. Tajima, and N. Miyamoto |