ハラ ケンジ
原 賢二 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2013/04 |
形態種別 | 著書 |
標題 | 金属錯体単分子層の高密度化・構築と新規触媒反応場としての応用 |
執筆形態 | 単著 |
掲載誌名 | 触媒の設計・反応制御 事例集 |
出版社・発行元 | 技術情報協会 |
巻・号・頁 | 72-79頁 |
著者・共著者 | 原賢二 |
概要 | 新規な触媒反応場としての利用が期待される高密度金属錯体単分子層および関連する事例について紹介した。特に、高密度金属錯体単分子層を触媒反応場として適用することにより触媒寿命や基質選択性が向上した事例を中心に述べた。 |