ニシオ カズユキ
西尾 和之 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2006/10 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | Control of anisotropic tunnel etching of al by indentation. |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Chem. Lett. |
概要 | 主筆 電解コンデンサの静電容量を極限まで高めるために,Al陽極箔に形成されるトンネルピットの配列を制御する手法が望まれている.ナノインデンターを用いてAl箔の表面に圧痕の窪みの配列を形成したところ,電解エッチング時にこの窪みからピットが成長し,ピットの配列を形成できた. |