タカギ シゲユキ
高木 茂行 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2002/06 |
形態種別 | 学術論文 |
標題 | Topography Simulation of Reactive Ion Etching Combined with Plasma Simulation, Sheath Model, and Surface Reaction Model |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Japanese Journal of Applied Physics |
出版社・発行元 | The Japan Society of Applied Physics |
巻・号・頁 | 41(6),pp.3947-3954 |