ニシオ カズユキ
西尾 和之 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2006/09 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | Control of pitting site on al for electrolytic capacitors using patterned masking film. |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Electrochem. Solid-State Lett. |
概要 | 主筆 電解コンデンサ用陽極箔に形成されるトンネルピットの配列を制御することにより,静電容量の局限化が期待されている.我々は,Al箔の表面にミクロンスケールの細孔配列を有するマスキングフィルムを形成し,適切な条件で電解エッチングを行うことでピットの形成位置を制御できる事を示した. |