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ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2024/08 |
| 形態種別 | 著書 |
| 査読 | 査読あり |
| 招待論文 | 招待あり |
| 標題 | Helium-ion microscopy and its applications in nanoscale devices |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Outlooking beyond Nanoelectronics and Nanosystems: Ultra Scaling, Pervasiveness, Sustainable Integration, and Biotic Cross-Inspiration |
| 掲載区分 | 国外 |
| 出版社・発行元 | Jenny Stanford Publishing |
| 巻・号・頁 | pp.139-213 |
| 総ページ数 | 11 |
| 担当範囲 | 3.3 Defect Engineering of Graphene for Carrier Conduction Tuning (p.176-p.186) |
| 国際共著 | 国際共著 |
| 著者・共著者 | Ogawa, Shinichi; Hlawacek, Gregor; Liu, Fayong; Nakaharai, Shu; Sarkar, Nirjhar; Cybartie, Shane |