タカギ シゲユキ
高木 茂行 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
|
言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2003/09 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | Ab Initio Calculation of F Atom Desorption in Tungsten Chemical Vapor Deposition Process Using WF6 and H2. |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Japanese Journal of Applied Physics |
出版社・発行元 | The Japan Society of Applied Physics |
巻・号・頁 | 42(9),5751-5752頁 |
著者・共著者 | Kazuhito Nishitani, Masaaki Kano, Toshiyuki Yokosuka |