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ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2019 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | “Barrier formation at the contacts of vanadium dioxide and transition-metal dichalcogenides” |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | ACS Applied Materials and Interfaces |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 11,pp.36871-36879 |
| 著者・共著者 | M. Yamamoto, R. Nouchi, T. Kanki, S. Nakaharai, A.N. Hattori, K. Watanabe, T. Taniguchi, Y. Wakayama, K. Ueno, H. Tanaka, |
| 概要 | インパクトファクタ:9.229, 被引用回数:5回 |