|
ヤマシタ タカシ
Yamashita Takashi
山下 俊 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
|
| 言語種別 | 日本語 |
| 発行・発表の年月 | 1993/05 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 標題 | A Mechanism for the Electron Beam Lithography of Solvent Soluble Photo Sensitive Polyimides |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Polym. Adv. Tech. (1993) |
| 巻・号・頁 | 4,244-250頁 |
| 概要 | 主筆 1993年5月4日 可溶性ポリイミドを用いた電子線レジストの開発とその反応機構の解明 |