エガシラ ヤスユキ
江頭 靖幸 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 1991 |
形態種別 | 学術論文 |
標題 | Temperature Dependence of the Sticking Probability and Molecular Size of the Film Growth Species in an Atmospheric Chemical Vapor Deposition Process to form AlN from AlCl3 and NH3 |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Appl. Phys. Lett. |
巻・号・頁 | 59,pp.2521-2523 |
著者・共著者 | H.J.Kim, Y.Egashira and H.Komiyama |