ナカハライ シュウ
  中払 周
   所属   工学部 電気電子工学科
   職種   教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2003
形態種別 国際会議論文
査読 査読あり
標題 “Strain relaxation mechanism of SiGe-on-insulator layers in the Ge-condensation technique”
執筆形態 共著
掲載誌名 Proceedings of Third International Conference on SiGe(C) Epitaxy and Heterostructures
掲載区分国外
巻・号・頁 pp.129
担当区分 筆頭著者,責任著者
著者・共著者 S. Nakaharai, T. Tezuka, N. Sugiyama, S. Takagi,