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ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2003 |
| 形態種別 | 国際会議論文 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | “Channel structure design, fabrication and carrier transport properties of strained-Si/SiGe-On-Insulator (strained-SOI) MOSFETs” |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | 2003 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), Technical Digest |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | pp.57 |
| 著者・共著者 | S. Takagi, T. Mizuno, T. Tezuka, N. Sugiyama, T. Numata, K. Usuda, Y. Moriyama, S. Nakaharai, J. Koga, A. Tanabe, N. Hirashita, T. Maeda, |
| 概要 | 被引用回数:102回 |